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胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。
CM2000的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求
研磨头表面涂料一层及其坚硬的硬质材料,从而使其表面具有非常粗糙的纹理,这种硬质材料是由碳化物、陶瓷等高质量物质构成,并且具有不同的粒径,研磨头处形成了一个具有较强的剪切区域,可以输送高粘度和低粘度物料,但它的分散效果和*后粒径大小都比胶体磨CM2000的效果更加理想。
CM2000系列管线式高剪切分散乳化机具有非常高的剪切速度和剪切力,粒径约为0.2-2微米可以确保高速分散乳化的稳定性。该设备可以适用于各种分散乳化工艺,也可用于生产包括对乳状液,悬浮液和胶体的均质混合。高剪切分散乳化机由定/转子系统生的剪切力使得溶质转移速度增加,从而使单一分子和宏观分子媒介的分解加速。
三级错齿结构的研磨转子,配合精密的定子腔。此款立式胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度达到3倍以上,的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。
胶体磨工作原理:
高剪切胶体磨在电动机的高速转动下使物料从进口处直接进入高剪切破碎区,通过一种特殊粉碎装置,将流体中的一些大粉团、粘块、团块等大小颗粒迅速破碎,然后吸入剪切粉碎 区,在*狭窄的工作过道内由于转子刀片与定子刀片相对高速切割从而产生强烈摩擦及研磨破碎等。在机械运动和离心力的作用下,将已粉碎细化的物料重新压入精磨区进行研磨破碎。精磨区分三级,越向外延伸一级磨片精度越高,齿距越小,线速度越长,物料越磨越细,同时流体逐步向径向作曲线延伸。每到一级流体的方 向速度瞬间发生变化,并且受到每分钟上千万次的高速剪切、强烈摩擦、挤压研磨、颗粒粉碎等,在经过三个精磨区的上千万次的高速剪切、研磨粉碎之后,从而产 生液料分子链断裂、颗粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分达到分散、粉碎、乳化、均质、细化的目的。液料细度可达0.5um。
CM2000系列选型表:
型号 |
流量 |
输出转速 |
线速度 |
马达功率 |
出/入口链接 |
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L/H |
rpm |
m/s |
kw |
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CM2000/4 |
700 |
9000 |
23 |
2.2 |
DN25/DN15 |
CM2000/5 |
3000 |
6000 |
23 |
7.5 |
DN40/DN32 |
CM2000/10 |
8000 |
4200 |
23 |
1.5 |
DN50/DN50 |
CM2000/20 |
20000 |
2850 |
23 |
37 |
DN80/DN65 |
CM2000/30 |
40000 |
1420 |
23 |
55 |
DN150/DN125 |
CM2000/50 |
80000 |
1100 |
23 |
110 |
DN200/DN150 |