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CMD2000系列是IKN（上海）公司2013年研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变更为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）
CMD2000研磨机有一定输送能力，对高固含量有一定粘稠度物料，CM2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子，进行物料的推动输送；所有与物料接触部位均为316L不锈钢，机座采用304不锈钢；特殊要求如：硬度较大物料，对铁杂质要求严苛的物料，管道有一定压力并且需不间断运转的工况，可选磨头喷涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型胶体磨腔体外有夹套设计，可通冷却或者升温介质。
研磨分散机的特点：
1、 线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨
2、 定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
3、 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
4、 在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
5、 高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
设备等级：化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级
电机形式：普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、
电源选择： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
电机选配件： PTC 热保护、降噪型
研磨分散机材质：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷
研磨分散机选配：储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
研磨分散机表面处理：抛光、耐磨处理
进出口联结形式：法兰、螺口、夹箍
研磨分散机选配容器：本设备适合于各种不同大小的容器
CMD2000系列研磨分散机设备选型表
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型号 |
流量 L/H |
转速 rpm |
线速度 m/s |
功率 kw |
入/出口连接 DN |
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CMD2000/4 |
300 |
9000 |
23 |
2.2 |
DN25/DN15 |
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CMD2000/5 |
1000 |
6000 |
23 |
7.5 |
DN40/DN32 |
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CMD2000/10 |
2000 |
4200 |
23 |
22 |
DN80/DN65 |
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CMD2000/20 |
5000 |
2850 |
23 |
37 |
DN80/DN65 |
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CMD2000/30 |
8000 |
1420 |
23 |
55 |
DN150/DN125 |
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CMD2000/50 |
15000 |
1100 |
23 |
110 |
DN200/DN150 |
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到*大允许量的10%
